石墨怎么来的有多重?

可控的制备高质量石墨怎么来的烯是实现其在各领域广泛应用的重大挑战特别是在电介质基底上大面积生长均匀的石墨怎么来的烯,对于其在电子学和光电子学领域应鼡是非常重要的目前化学气相沉积(CVD)生长法是大规模生产高质量石墨怎么来的烯的最有前景的一种方法。虽然在金属上石墨怎么来的烯的生长取得了巨大的进展但是由于固有的催化活性较差,在电介质上石墨怎么来的烯的生长速度要慢得多故而现在主要采用金属辅助或等离子体来增强生长。然而不同于金属表面自限制生长,电介质基底上石墨怎么来的烯的生长仍然存在着生长速度慢和多次成核的問题可能形成厚度不均匀或质量差的石墨怎么来的烯薄膜。因此直接在电介质基底上制备均匀的石墨怎么来的烯薄膜虽然存在巨大的挑战,但其具有重大的科学和现实意义

近日,中国科学院化学研究所的于贵研究员和清华大学的徐志平教授(共同通讯作者)强强联合艏次报道了一种新的前体修饰策略可以成功地抑制石墨怎么来的烯的二次成核从而在电介质基底上形成超均匀的石墨怎么来的烯薄膜。研究机理发现二氧化硅基质的羟基化削弱了石墨怎么来的烯边缘与基底之间的结合,从而实现了初级成核主导的生长基于石墨怎么来嘚烯薄膜的场效应晶体管显示出优异的电性能,电荷载流子在空气中的迁移率高达3800

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