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本論文提出一新型的可調單波長忣多波長外腔半導體雷射系統藉由一個AR-coated半導體雷射、削角入射光柵與實驗室自製的V形條形鏡形成外腔,得到不同的單波長與雙波長輸出其中單波長的部分,可調範圍為60 nm (1500 nm- 1560 nm)旁模抑制比皆超過30 dB,並可高達45 dB;雙波長部分藉著調整反射鏡橫向的位置,可分別得到不同間隔的雙波長及相同間隔不同雙波長的輸出同時我們也量測了雙波長輸出時,功率隨時間變化的穩定度其變化量在10-4 左右。更進一步地利用液晶反射鏡(與交大電物所液晶實驗室合作)做為空間調制器,電控雷射不同波長的輸出分別得到單波長、雙波長與三波長輸出。我們所量測到最寬的雙波長間隔為5.42 nm最窄的為0.67
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